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    摩方精密3D打印

    簡(jiǎn)要描述:摩方精密3D打印是科研級3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實(shí)現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學(xué)研究及應用創(chuàng )新,為客戶(hù)提供好的3D打印服務(wù)體驗。

    • 產(chǎn)品型號:
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間:2023-11-20
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:3556

    詳細介紹

    品牌摩方精密應用領(lǐng)域醫療衛生,食品,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥
    光學(xué)精度10μm

    一、摩方精密3D打印產(chǎn)品介紹

    nanoArch®是采用PUSL(面投影微立體光刻)技術(shù),用于實(shí)現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。通過(guò)將紫外光投影到液態(tài)樹(shù)脂表面使其固化,逐層累加從而完成產(chǎn)品的制作。通過(guò)一次曝光可以完成一層的制作。

    科研級3D打印系統,擁有超高打印精度和超低打印層厚,從而實(shí)現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學(xué)研究及應用創(chuàng )新。


    二、摩方精密3D打印產(chǎn)品特性

    1、可定制高定位精度的光學(xué)系統和運動(dòng)平臺,兩者最高分辨率皆可達到20μm。

    2、采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。

    3、通過(guò)工藝技術(shù)控制,實(shí)現3D打印成品的表面光滑。

    4、光學(xué)方面:光學(xué)實(shí)時(shí)監控,實(shí)現自動(dòng)對焦及曝光補償。

    5、軟件系統:nanoArch圖形界面控制系統,參數端口開(kāi)放。


    三、使用環(huán)境要求

    1、需避免的場(chǎng)合:

    垃圾、灰塵、油霧多的場(chǎng)所;

    震動(dòng)以及沖擊多的場(chǎng)所;

    能觸及藥品和易燃易爆物的場(chǎng)所;

    高頻干擾源附近的場(chǎng)所;

    溫度會(huì )急劇變化的場(chǎng)所;

    在CO2、NOX、SOX等濃度高的環(huán)境中。

    2、環(huán)境濕度:40%-60%

    3、環(huán)境溫度:25±3℃

    4、電力需求:

    100-240V/單相/50/60Hz/15A;

    供電電網(wǎng)波動(dòng):<5%;

    電網(wǎng)地線(xiàn)符合機房國標要求。


    摩方精密3D打印


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